振动抛光机产品介绍
Saphir Vibro振动抛光机为得到无残留变形的制备表面而设计,是用于进一步材料表征,如EBSD(背散射电子衍射),AFM (原子力显微镜)分析和纳米压痕或显微硬度测试的理想前序设备。
1)可快速更换的带磁性系统的抛光池
2)从60-120 Hz的自动频率控制
3)“Surface-Guard”功能降低试样磨料结晶和试样表面腐蚀的机率
4)预先安装好的制备方案和耗材清单
5)低工作噪音和吸振式结构设计
6)软闭合式防护罩和排气接口
7)可存储多达200个制备程序
振动抛光机技术参数
抛光池内径 | 308 mm |
抛光布直径 | 300 mm / 305 mm (12“) |
接口 | socket (depending on the configuration) · USB · Ethernet |
排气接口 | Ø 40 mm |
环境温度 | 10 - 40 °C |
IP 码 | IP 22 |
连接功率 | 0.25 kVA |
驱动功率 | 135 VA |
电源 | 220-240 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) 100-120 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) |
宽 x高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 (取决于设备) | ≈ 45 kg |
振动抛光机标准配置
振动抛光机主机;抛光盘;砂纸
振动抛光机可选配件
抛光盘;砂纸;抛光液;绒布